【半導體】入行必看！最全最細的半導體工藝全套教程。覆蓋：前、中、後三段工藝！包含半導體工藝流程介紹、IC芯片、氧化、沉積工藝、CMP等等及封裝工藝圈流程 P24 - 清洗工藝—重要性

大家好 我是清晨教育 周浩老師 本節課的話是我們半導體清洗 設備及工藝專學的第一節課 首先來給同學們講一下 清洗工藝或者說這個工序 在我們半導體裏面 它的一個重要性 清洗工具的話 它基本上是佔整個半導體 晶圓製造工序的20%到30%的 一個工作量 那麼像在集成電路芯片製造的 微小顆粒灰塵和微量雜質的 存在是高良率和高可靠性的 主要障礙 那麼集成電路芯片製造生產線上 的無塵室 顧名思義就是一個非常潔淨的 空間 它旨在抑制塵埃中有機和無機 雜質的引入和產生 在晶圓儲存搬運處理和加工的 過程當中 我們不可能百分百的避免微量的 污染 所以說基本上每一道 半導體的一個工序過後的話 它基本上它都要清洗 爲什麼 因爲它在搬運的過程當中 它是可能會被污染的 對不對 所以說清洗工藝的話 它的作用是在下一道晶圓加工 工藝之前的話 從晶圓上去除這些因不可避免的 因素而附着在晶圓上的塵埃 以潔淨的狀態送至下一道工序 那麼這就是我們清洗工藝對於 我們晶圓製造的一個重要性 對不對 好吧 那麼本期課的話主要是來講解 我們半導體清洗工藝它的一個重要性 那麼我們下期課的話就來講一下 我們清洗工藝的類型 好吧 那麼同學們再見