化學氣相沉積（CVD）原理視頻

化學氣象沉積CVD設備,是一類藉助氣態物質在固體表面發生化學反應,進而生成固態沉積物的專業設備,其工作原理為,先使含有薄膜元素的一種或多種氣象化合物過單質,在氣態條件下發生化學反應,隨後將生成的固態物質沉積於加熱的固態機體表面,這一過程大致可分為三步,即形成揮發性物質,將其轉移至沉積區域,最終在固體上完成化學反應並產生固態沉積物, CVD設備具有諸多優勢,能在中溫或高溫下,通過氣態初始化合物間的氣象化學反應,在機體上形成固體物質沉積,可在常壓或真空條件下作業,真空沉積的磨層質量通常更佳, 藉助等離子和激光輔助技術,能促進化學反應,實現低溫沉積,塗層化學成分可隨氣象組成改變,能獲得梯度沉積物或混合鍍層,還能精準控制塗層密度與純度, 繞度性好,適用於複雜形狀弓箭及顆粒材料鍍膜。