等離子體增強原子層沉積設備

本影片介紹了等離子體增強原子層沉積（PEALD）設備的工作原理。透過前驅體吸附、惰性氣體吹掃及等離子體活化反應的循環過程，可精準生長單原子層薄膜，為半導體等高科技領域的器件升級提供關鍵技術支持。