ALD原子層沉積技術

本影片介紹了原子層沉積（ALD）相較於傳統化學氣相沉積（CVD）的技術優勢。透過獨立且交替的表面反應機制，ALD 能有效避免前驅體在氣相中接觸，從而杜絕顆粒產生，確保製備出高質量且無缺陷的薄膜。