真空鍍膜設備的使用方法

真空鍍膜設備工作時,先由機械泵、擴散泵等抽氣系統創建高真空環境。 因為空氣分子會干擾魔體分子沉積,導致結晶體粗糙。 高真空能確保結晶體細密光亮。 接著,利用加熱蒸發或建設方式釋放魔體材料。 蒸發是加熱蒸發源讓材料氣化。 建設則是用高能粒子轟擊靶材,使靶材原子建設出來。 然後,魔體分子在真空室飛行,沉積在機材表面,歷經吸附、擴散、凝結等階段形成薄膜。 像磁控建設技術就可提升建設效率與薄膜質量。 最後,鍍膜完成後冷卻設備,讓薄膜固化,增強與機材的結合力,提升穩定性與耐久性。 按鍍膜方式,設備可分為蒸發沉積鍍膜和建設沉積鍍膜兩類。 前者加熱靶材使表面組分蒸發沉降沉膜,後者用電子或高能激光轟擊靶材,使組分建設後沉積沉膜。