【半導體精講】這絕對是講的最全最細的半導體教程，從0到1帶你徹底瞭解芯片半導體工藝！包含半導體工藝流程介紹、IC芯片、氧化、沉積工藝、CMP等等全工藝流程！ P11 - 第10講—顯影

大家好 我是天真教育 周浩老師 那麼在上一個的話 我們是講了光刻 對吧 那麼光刻之後的話 那麼這個光刻膠 它就變成那種可溶解的狀態啊 所以說 下一步的話就需要顯影 顯影 好 那麼顯影的話 它一般是需要顯影機的啊 那麼我們來看一下 顯影它到底是怎麼回事 好吧 它的功力是怎麼樣的 第六步 顯影 光刻膠曝光以後就進入顯影階段了 所謂顯影就是把光刻膠上不需要的部分沖洗的問題 比如因爲液體的張力 很細小的地方可能進不去就溶解不乾淨 同樣 其他的顯影方式 比如噴霧式顯影 一邊噴顯影液 一邊沖洗 同學們要有個概念啊 他剛纔視頻裏面 剛纔所說的啊 他有些地方的話 他很小 對不對 他溶解不進去啊 他說溶解不進去 那麼這裏的小的話 他是指的那種 納米級別的一些納米級別的一些尺度啊 所以說水 它因爲張力進不去啊 所以說這些顯影液 它因爲張力進不去 這是很正常的 好吧 可能進不去就溶解不乾淨 同樣 其他的顯影方式 比如噴霧式顯影 一邊噴顯影液 一邊沖洗 或者還有混凝式顯影 先噴一層顯影液泡一會兒 然後噴霧旋轉烘乾 接下來 你需要把它放到130-200度的烤箱中烤30分鐘 這是爲了讓它酥脆可口的 是爲了讓剩餘的光刻膠粘的更牢固 因爲接下來他就要接受更嚴酷的考驗了 好 那麼這就是我們顯影的這個工藝啊 那麼顯影之後的話 他下一步的話 其實就要開始這個刻石了啊 那麼本期課的內容啊 到這就結束了 同學們再見