【半導體精講】這絕對是講的最全最細的半導體教程，從0到1帶你徹底瞭解芯片半導體工藝！包含半導體工藝流程介紹、IC芯片、氧化、沉積工藝、CMP等等全工藝流程！ P26 - 第25講—本台設備清洗工藝講解

大家好 我是天真教育 周晃老師 本節目的話 我們來講一下 我們本臺設備 它的一個清洗工藝 那麼我們這個設備的話 其實它是用的溼式清洗 而且的話 它是用的二流體清洗 二流體清洗 那麼什麼叫二流體清洗 它裏面它主要是有兩種流體 對吧 那麼我們一般來說的話 氣體 其實它也算是流體 那麼這裏的話 我們的清洗雜質 是去離子水 同學們 是去離子水 那麼去離子水的話 其實它也是純水 純水 它裏面的話 就是說 它沒有其他的一些金屬離子 它沒有金屬離子 那麼它採用的是 通過照聲波和氮氣霧化 那麼從而把液體 把它噴灑在機能表面 從而來實現一個清洗的 那麼這裏的話 也是有視頻 可以給大家來看一下 OK 那麼可以看到 這裏的話 這裏噴灑的 就是我們霧化的清洗液 這裏噴灑的 就是我們霧化的清洗液 然後下面的話 是一個轉檯 那麼這個轉檯的話 它帶動我們機元來旋轉 從而讓它的一個清洗 更加的一個均勻 對吧 好 我們繼續來看一下 OK 那麼這就是我們的二流體清洗 它的一個形式 那麼這裏面需要注意的是 這裏我們是用氮氣 來霧化它 氮氣 那麼爲什麼用氮氣 因爲氮氣的話 其實它在常溫下 是屬於一種惰性氣體 它不輕易 與其他物質發生反應 所以說這裏我們用氮氣 用氮氣 那麼可能同學們疑惑 什麼叫照聲波 其實照聲波和超聲波 它們差不多 只不過照聲波的話 它照聲波清洗劑 它清洗 它不僅保存了超聲波清洗的優點 而且還克服它的不足 那麼它的清洗機裏的話 是由高頻的 850赫茲的振動 振動 並結合化學清洗劑的化學反應 對規遍進行清洗 當然的話 這裏我們是用的純水 用的純水 那麼在清洗的時候的話 它由化能器發出波長爲一個μ的 它的波長爲一個μ 頻率爲0.8兆赫的高能聲波 那麼在這種高頻振動下 來溶解分子 溶解分子在這種聲波的推動下 做一個加速運動 那麼它最大的速度的話 可以達到30 30釐米每秒 對不對 所以說它形成了 它形 所以說因此形成 因此形成不了超聲波清洗鏈的氣泡 對不對 就是說它清洗的話 它不會產生超聲波那種氣泡 而只能以高速的流體波連續衝擊 晶片表面是硅晶 是硅片表面附着的污染物的細小顆粒 被強制的除去 必須進入到清洗液中 對吧 那麼這就是我們噪聲波 它相比於我們超聲波清洗 它的一個優點 就是說它不會產生氣泡 同時的話 它清洗液在它高頻振動的過程當中的話 會讓它速度更快 那麼以這種大的一個速度 產生一個動能 從而把它表面的附着物 把它給沖洗掉 對吧 那麼這也是我們目前 目前半導體清洗裏面 是比較常用的一種方式 噪聲波清洗 好 那麼噪聲波清洗的話 我們看一下 這就是我們一般的噪聲波發聲器 對不對 那麼在我們設備裏面表現出來的話 那麼就是這裏 這是一個噪聲波控制器 噪聲波控制器 那麼是把它給放在這裏的 那麼其實像我們一般的半導體設備的話 其實它的電箱的話 它一般是不放在下面的 它一般不放在下面 爲什麼 因爲半導體的話 它裏面匯用了很多液體 那麼液體的話 它們一般是順着而下 在下面對不對 如果說我們把電箱放在它的下面的話 那麼一般可能容易短路 所以說我們一般是放在側面 放在側面好一點 然後裏面這個的話是我們的上位機 上位機 然後裏面的話就是我們的一些控制器 對吧 那麼這是我們半導體的電荒部分 好 那麼我們再來看到 同時這裏我們除了用了這種二流體清洗 之外的話 其實我們還用了毛刷清洗 毛刷清洗 那麼什麼意思呢 這裏我們一邊用二流體來沖洗它的表面 那麼在後面的話 它還會有一個毛刷來實時的跟進 來旋轉清洗 毛刷 同時同學們注意 這裏的毛刷的話 它的材質爲PVA材質 PVA材質 是比較軟的 它不會劃傷我們這個機器人表面 對不對 那麼而且它一般是需要定製的 需要定製 那麼可以看一下 這就是我們毛刷的質地 質地類似於我們的 類似於我們那種海綿 或說泡沫 對不對 比較軟 好吧 好 那麼本節目的話 就是對本臺設備的一個清洗工藝的講解 那麼如果說大家還有什麼問題的話 那麼也可以在評論區留言 好吧 那麼同學們 再見