【半導體精講】這絕對是2026年講到最好的半導體教程，從工藝概述到半導體設備設計！帶你從零基礎學會半導體知識！少走99%的彎路！ P26 - 清洗工藝——類型

大家好 我是天成教育 周浩老師 本期課 我們來講一下清洗工藝的類型 其實一般的半導體設備 它的機械結構相對來說是比較簡單的 如果說你是一個幹了多年3C的一個機械工程師的話 如果說你現在去做半導體 其實它的機械結構對於你來說是很簡單的 那麼難的是什麼 難的是它的工藝 同學們記住 工藝 其實半導體設備的話 它的工藝是比機械結構更重要的 好 那麼我們來看一下它的工藝有哪一些 那麼我們清洗工藝的話 它分爲溼式清洗和乾式清洗這兩種 那麼它的溼式清洗的話 它裏面主要是使用化學品或者純水來清洗 使用化學品或者純水來清洗 那麼這裏的純水的話是指的不是我們一般的自來水 我們一般的自來水的話 它裏面是有很多一些其他的離子的 那麼它這裏面的化學品的話 它就包括了APM FPM HPM SPM 以及DHS 對不對 那麼這些英文字母它們代表什麼意思呢 首先我們來看一下 這個APM的話 其實它是氣氧化氨和過氧化氫以及水的溶液 氣氧化氨 過氧化氫以及水的溶液 那麼這個FPM的話 它指的是氫氟酸 過氧化氫和水的溶液 那麼HPM是鹽酸 過氧化氫和水的溶液 那麼這個SPM是硫酸和過氧化氫的溶液 以及這個DHF是氫氟酸和水的溶液 它們都是通過這些化學品的話 通過化學反應來溶解晶圓表面的一些雜質 對吧 然後的話再利用純水把它給沖洗掉 那麼這是我們的溼式的一個清洗 當然的話 如果說是純水的話 那麼它清洗的一般是那種附着能力 它不是很大的一些雜質 好 那麼這是我們的溼式清洗 那麼幹式清洗的話 它不是使用的液體 它使用的是氣體 對吧 它可能使用的是二氧化碳氣體 或者說是臭氧氣體 或者說是等離子體 那麼是通過氣體把它表面的一些雜質污染 把它給吹掉 那麼這是我們的乾式清洗 但是其實在我們整個半導體制造的一個工藝當中 其實溼式清洗它是佔大多數 溼式清洗它是佔大多數的 好吧 那麼這是我們這個清洗工藝的一個類型講解 如果說大家還有什麼不懂的話 那麼也可以在評論區留言 好吧 那麼同學們 再見