【半導體工藝】最全最系統教程!從頭到尾帶你徹底瞭解芯片半導體工藝!包含半導體工藝流程介紹、IC芯片、氧化、沉積工藝、CMP及封裝工藝圈流程等等 P8 - IC工藝——清洗設備

工业解析
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AI 生成·可能包含錯誤
視頻概述
AI 生成本影片詳細介紹了半導體製造流程中的清洗工藝。清洗是提升晶片良率的關鍵環節,旨在去除製程中產生的顆粒、金屬污染及化學殘留物。影片對比了主流的濕法清洗與乾法清洗,並分析了單片清洗與批量清洗設備的優劣。
各位PTT同學大家好
我是小王教育接工師
傳統感謝大家觀看啊
今天給大家帶來的是半導體行業設備
IC芯片織中油製造流程的一個部分工藝
之前呢我們已經講了氧化講了塗膠
講了乾燥啊
講了這個霧化氪石啊
也講了這個離子注入以及成績和CMP啊
那今天呢我們再來講一個步驟叫清洗啊
我們講CMP
他其實是一個拋光的過程對不對
但是我們啊一般來講拋光之後
我們要做一個清洗和乾燥的過程啊
不然的話啊對後續的工藝呢
他會有很大的這個影響
好清洗呢是半導體行業製程
必不可缺少的一個重要環節
也是影響半導體期間良率的一個
重要因素啊
這裏呢給大家啊看到這個沒有
這個是半導體的離子芯片啊
它是我們清洗工藝中的一種
啊是我們的一種啊
爲了這個大幅度降低他的這個良率啊
對吧加提高他的良率對吧
降低雜質的影響
比如說我們的一些顆粒啊
比如說自然氧化層
或者說我們一些金屬呃
金屬的污染以及什麼呢
比如說我們在沉積啊
或者說在做氧化的過程中啊
以及在做這個離呃
這個殘呃這個光刻的過程中啊
以及呃這個點膠
塗膠和除膠的過程中對吧
我們會有不同的這個殘留物
以及什麼比如說我們做CMP
CMP啊就是化學機械研磨的過程中
他也會有啊
比如我們研磨液啊
以及我們的研磨顆粒啊
以及我們啊這個研磨頭他的一些
啊也呃
磨磨下來的一些這個這個顆粒啊對吧
這都會對他產生影響啊
是說我們要做一個清洗啊
那就如果說按清洗的步驟
或者數量來算的話
基本上是我們新聞中這過程中呢
呃比較比較大的一個工序啊
就是數量還是比較多的啊
好我們來看一下啊
就是在呃半導體清洗過程中啊
他會有很多的步驟
我們在過程裏面呢非常多對吧
那這個各步驟裏面我們都會進行
呃前端清洗
或者說中端清洗的過程啊每一個
啊每一個堆疊過程呢都要進行清洗哦
每個堆疊過程都要進行清洗哦
那麼清洗的工藝好
還是提升良率的關鍵對吧
特別是什麼呢
特別是要求更高的時候啊
特別是我們的這個指認啊納米
納米級別達到更高的時候
這個時候影響會更大啊
因爲我們在光刻的過程中影響也比較大
在刻石的時候啊成績的時候
影響都非常大
那麼一般來講呢
清洗設備啊
呃這個清洗技術的一般來講可以分爲兩種
一種的叫絲髮
呃清洗第二種的叫幹發清洗啊
絲髮清洗的是目前的主流路線啊
佔芯片清洗的呃
主要是一般來講佔了80%啊對吧
那麼絲髮清洗主要是什麼方式啊
他是通過什麼
通過化學藥液以及去滴溼水
當然他也可能會包含其他方式
比如說我們的超聲啊
這種清洗方式
那呃共同作用的情況下對吧
對原金的表面進行無傷的無傷
我們講無損傷的清洗方式啊
但是其實他是有一定的這個損傷形式啊
那包括了這個
RCA的清洗法以及超聲清洗對
那麼絲髮清洗呢
它是效率比較高啊
成本呢也是比較低的啊
但是呢化學啊
因爲它是一個化學溶劑的這個方式
那化學溶劑它會造成這個化學污染
同時呢
它也可能使我們的芯片造成這個交叉污染
對吧
同時呢也可能產生這個圖形的損傷
對我們光刻之後呢啊
刻石之後呢它會產生一個圖形損傷對
啊清洗過程它會有一個腐蝕的一個過程
腐蝕的過程
或者一個溶劑的一個過程啊
那麼鋼發清洗呢
他是不需要使用這個化學溶劑的清洗方式
啊啊一般來講呢是嗯
有幾種第一種呢就是啊像氣象清洗法啊
包括我們這裏等離子的這種清洗方式
對吧優點什麼優點就是清洗的時候
它不需要什麼化學溶劑啊
所以說它的這個環境是比較好的啊
對我們的交叉污染呢
是沒有什麼交叉污染的啊
對不對
啊磨損呢也是比較低啊
但是呢有個不好的地方就是它的成本比較高
同時呢一般來講
它的要求的控制精度也是比較高啊
我們的技術病人呢也是比較高的啊
所以說目前來講呢
它的佔比率也沒有那麼高啊
那麼嗯
像我們目前主流的清洗設備啊
主要包括哪一代
包括這個單片清洗啊以及潮溼清洗
還有組組合式清洗啊
以及什麼以及我們批量的啊
批量批次啊批量次的這種呃
旋轉噴零啊就是高速旋轉吧
噴加加上噴零的
等離水噴零的形式來把它這個給
給它弄乾淨啊弄乾淨這種清洗方式
那目前來講啊
單片清洗它的佔比率是比較高的
爲什麼呢
因爲它可以解決交叉污染的問題
而且它的質量保證
穩定性是比較好的啊
但是呢它的設備產能是比較低啊
因爲我們是必須要單片的形式去做
啊那麼潮溼清洗呢
就是我們講是批量式的一個清洗方式啊
它的這個呃
這個生產效果的是比較好的
就我們講它的批量啊批量性是比較好的
就是效效率是比較高的啊
但是呢產能是比較高
但是呢它有很強的污染性
而且對質量來講呢
呃它的這個波動性還是稍微比較大的啊
好那今天呢我們就認識一下啊
半導體清洗設備
有一些工藝啊或者說它的這個分類形式
以及我們能用到的一個狀態啊
以它的一個特點區別啊好
今天呢我們就講到這裏啊
感謝大家的觀看
然後感謝大家關懷支持啊
那麼大家一見三連多之下
我是蒼老師期待下次再見
