納米壓印的工作原理，他真的可以替代EUV光刻機嗎

沒有EUV光刻機也可以製造5nm芯片,近期佳能推出了一個nm壓印設備,可以替代EUV光刻機進行芯片製造,它是怎麼實現的呢? 衆所周知,芯片內部極其複雜,一塊只加蓋大小的手機芯片,內部包含超過100億個晶體管,這些晶體管能夠製造出來,都離不開光刻機。 我們先看看傳統的EUV光刻機是如何製造芯片的,芯片製造都離不開晶圓,在光刻之前,需要在晶圓表面塗上一層光刻膠,一切準備就緒後,就能開始光刻了。 在自然界是完全不存在的,必須通過EUV光刻機,用激光烘機金屬CD來產生,獲取到極紫外光後,還需要經過多層透鏡的反射,然後光線來到光演模板,演模板上雕刻的有集成電路,當光線通過演模板時,會通過光學鏡片進行聚焦,然後就能將演模板的電路雕刻到晶圓的光刻膠上。 那蠟米壓印技術又有什麼不同呢?跟EUV光刻機一樣,蠟米壓印也需要在晶圓上塗上一層光刻膠,然後將晶圓放入相應的位置,接下來就是壓印。 壓印跟我國古代的雕板印刷術類似,首先準備一個刻有電路圖的模板,然後將模板用力按壓到塗有晶圓的光刻膠上,這樣模板上的電路圖就像蓋印章一樣蓋到光刻膠上了。 但是現代半導體芯片都是由無數層堆疊電路組合而成的,這就需要極高的對齊精度,佳能開發的對齊技術,能通過測量精度小於1瓦米的位置,來糾正對齊偏差。 電路圖印到晶圓的光刻膠上後,怎麼將模板分離出來呢?這就需要用到紫外光,紫外光照射到晶圓上後,會發生聚合反應,使得光刻膠固化,接着就能將演模板移除了。 但是想要移除演模板而不破壞電路是非常困難的,稍有不慎就會損耗電路,所以技術難度極高。 納米壓印只是替代EUV光刻的步驟,其他步驟像刻石、離子注入、薄膜成積等工藝還是一樣進行的,也就是說納米壓印與這些工藝是完全兼容的。 納米壓印技術比較擅長製造固態硬盤的3D閃存振力芯片,以及計算機內存的DRAM芯片,但最終會過渡到對CPU等邏輯芯片的製造。 在當下芯片行業面臨極大困難的情況下,納米壓印也成爲突破芯片限制的不錯選擇。