【半導體】目前最全最細的半導體工藝全套教程。從頭到尾帶你徹底瞭解芯片半導體工藝！包含半導體工藝流程介紹、IC芯片、氧化、沉積工藝、CMP等等及封裝工藝圈流程 P11 - 11.光刻

大家好 我是千人教育 卓華老師 那麼在上一個的話 我們是講到了塗膠烘乾 那麼塗膠烘乾之後的話 我們這一個規片的話 它就要進行光刻了 光刻 那麼光刻的話 也是我國被掐脖子的一個工藝 那麼我們來看一下光刻 它到底是什麼樣子的 好吧 那麼我們一起來看一下這個視頻 第5步光刻 接下來進入光刻環節 你需要一臺光刻機 現在這個視頻上面看到的光刻的話 其實它是阿斯麥爾的極紫外的 EV光刻機 在光的照射下 光刻膠上的化學物質 就開始產生化學反應了 有的光刻膠在見光以後 會變成可溶解的狀態 這就很容易在接下來的環節中被沖洗掉 這種膠叫做正膠 另外一種光刻膠 則會在見光之後變得更加堅固 所以不見光的地方更容易沖洗掉 這種膠叫做負膠 現在的工藝 我們一般使用正膠 光刻是芯片製造裏 技術含量最高的一個環節 涉及到非常多的技術問題 好 那麼這就是光刻的一個大概的原理 對吧 它就是利用光和光刻膠 來發生一個化學反應 從而來生成一定的電路圖案 對不對 那麼這裏比較複雜的 這裏的光 我們應該怎麼來發生 對不對 因爲光這個東西的話 它像一個光子 像一個光子的話 它的一個它沒有質量 而且它的體積是非常小的 所以說就比較難控制 是吧 好 那麼光刻膠的話 那麼光刻膠它就可以溶解 可以溶解 所以說下一步的話 那麼就是顯影了 顯影 好吧 那麼本節課的內容到這裏就結束了 同學們再見