【半導體精講】這絕對是2026年講到最好的半導體教程，從工藝概述到半導體設備設計！帶你從零基礎學會半導體知識！少走99%的彎路！ P11 - 工藝——光刻

大家好 我是千人教育 卓化老師 那麼在上一個的話 我們是講到了這個塗膠烘乾啊 那麼塗膠烘乾之後的話 我們這個龜片的話 他就要進行光刻了啊 光刻那麼光刻的話 也是我國被卡脖子的一個工藝啊 那麼我們來看一下這個光刻啊 他到底是什麼樣子的 好吧 那麼我們一起來看一下這個視頻啊 第五步光刻 接下來進入光刻環節 你需要一臺光刻機 現在這個視頻上面看到的這個光刻的話 其實他是ASML的這個極紫外的這個EV光刻機啊 在光的照射下 光刻膠上的化學物質就開始產生化學反應了 有的光刻膠在見光以後會變成可溶解的狀態 這就很容易在接下來的環節中被沖洗掉 這種膠叫做正膠 另外一種光刻膠則會在見光之後變得更加堅固 所以不見光的地方更容易沖洗掉 這種膠叫做負膠 現在的工藝 我們一般使用正膠 光刻是芯片製造裏技術含量最高的一個環節 涉及到非常多的技術問題 好 那麼這就是光刻的一個大概的原理 對吧 他就是利用那個光和這個光刻膠啊 來發生一個化學反應 從而來生成一定的電路圖案 對不對 那麼這裏比較複雜的就是這裏的光啊 我們應該怎麼來發生 對不對 因爲光這個東西的話 它像一個光子啊 像一個光子的話 它的一個它沒有質量 而且它的體積是非常非常非常非常小的啊 所以說就比較難控制 是吧 好 那麼光刻膠的話 那麼這個光刻膠啊 它就可以溶解啊 可以溶解 所以說下一步的話 那麼就是顯影了啊 顯影好吧 那麼本節課的內容啊 到這裏就結束了啊 同學們再見