報告：中共囤積DUV光刻機 美應全面禁出口

【新唐人北京時間2026年10月04日訊】美國研究機構「技術與治國方略中心」最新報告指出，美國限制向中國出口先進半導體製造設備，但中共仍取得並囤積了數百台可用於製造先進芯片的深紫外線（DUV）光刻機，顯示現行出口管制可能存在漏洞，報告的作者包括前美國出口管制官員與前美國商務部技術政策顧問，他們建議全面禁止向中國出口此類設備。