【新唐人北京時間2026年01月30日訊】北京當局砸錢招募荷蘭ASML公司的幾名前工程師，通過拆解舊設備進行逆向工程，仿製了一臺極紫外光微影（EUV）設備，即宣稱造出了自己的EUV原型機。不過荷蘭媒體日前發文指出，中方並不具備相應的光學技術，其仿造的EUV設備其實無法真正造出高端芯片。

近日，中共一些有官方背景的媒體宣稱，深圳一個研發團隊「已經突破技術門檻」，打造出了「中國自己的EUV原型機」，並贊譽這項工程是所謂「中國版曼哈頓計劃」的重大成果。這番宣傳引起了荷蘭業界的關注。

荷蘭《電訊報》（De Telegraaf）日前發文指出，儘管中方宣稱已成功複製ASML的EUV設備，但光學系統依然是中方最難以跨越的障礙。由於中方並未取得關鍵的光學技術，僅靠仿製的EUV設備造不出高端芯片，也撼動不了ASML在半導體領域的領軍地位。

這篇報導直言不諱地指出，當今世界上所有新款手機與電腦設備中的高端晶片，毫無例外都是由 ASML的設備生產的，但這些設備如果沒有頂尖的光學技術及系統的支持，根本無法運作。

報導介紹，ASML的設備能將晶片圖案縮小到什麼程度，很大程度上取決於光學系統提升解析度的能力。為了製造高端芯片，最先進的ASML曝光機使用了波長僅13.5奈米的極紫外光（EUV）。而獨家向ASML提供相應的光學技術與系統支持的德國光學和光電子技術公司Carl Zeiss，從上世紀九十年代開始就與ASML進行深度合作。在ASML決定為當時商業前景不明的EUV技術投入數億歐元時，Carl Zeiss也義無反顧地加入其中。

Carl Zeiss半導體光學元件製造總裁亨捨（Christoph Hensche）對荷蘭媒體回憶說：「我們共同經歷了許多艱難時刻，特別是2008年金融海嘯前後，但我們總能找到解決方案。」

他表示，德國式的「嚴謹」與 荷蘭 ASML公司「務實」的文化互補得很好。

「ASML天生更願意承擔風險，而我們則傾向深入分析、穩紮穩打。」亨捨說，「但我們最終還是選擇共同冒險，因為雙方都知道，產品必須在正確的時間推向市場，通常是愈快愈好。」

報導稱，ASML公司在2016年斥資10億歐元，收購了Carl Zeiss半導體業務24.9%的股份。目前ASML第二代EUV曝光機的核心改進，也是依仗Carl Zeiss技術的持續突破，特別是提升光學系統的數值孔徑（NA）。於此同時，ASML在光源、組件精度與系統設計上也投入了巨大的努力。

此前，路透社曾在本月17日的報導中援引知情人士的爆料透露，中共政府招募多名前荷蘭半導體設備龍頭艾司摩爾（ASML）前工程師，透過逆向工程的方式，在深圳一處高度戒備的實驗室內，製造出了一臺「極紫外光機」（EUV）的原型機。這套設備於2025年初完成並進入測試階段。

該報導進一步透露，爲了上述祕密工程，中方讓上百名學習半導體專業的大學畢業生拆卸ASML的舊設備，任務完成就發獎金。目前中國的EUV原型機雖然能夠產生極紫外光，但還不能實際生產出可用的芯片。

知情人士還透露，這項突破是中方耗時約6年的工程一直在高度保密下推動，由習近平的親信，現任中共中央科技委員會主任的丁薛祥主導，華為在其中扮演關鍵協調角色。被重金招募參與其中的幾名ASML前工程師，在實驗場所都是使用的假名，他們多數是近期退休的具有中國背景的ASML前員工。

路透社的報導提到，中方的上述研發團隊曾試圖按照原尺寸來複製ASML的EUV設備，但沒能成功，最後只好放大設備的體積規模來提升其功率，所以仿製的EUV設備形體比ASML的EUV設備大很多。目前中方最大瓶頸在於缺乏精密光學系統的支持。中方自行研發的替代方案，雖然讓其仿製的EUV設備得以在2025年初啟動測試，但其技術水平與歐洲的先進技術相比差距仍然很大。

（記者何雅婷綜合報導/責任編輯：林清）