國家實驗室雙光子光刻技術取得突破性進展

美東4月8日發布， 本次國家實驗室探索系列網路研討會重點介紹了勞倫斯·利弗莫爾國家實驗室在基於超透鏡的雙光子光刻（TPL）技術方面取得的突破性進展。。新唐人、大紀元進行網絡重播，即時翻譯字幕。
這新一代積層製造平台利用超過12萬個可獨立定址的聚焦光斑，能夠大規模並行製造複雜的多尺度三維微結構。這項創新在顯著提高吞吐量的同時，保持了高精度，為微電子、量子裝置、聚變能源系統和其他先進技術應用開闢了新的可能性。