新唐人精選新聞

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美东4月8日发布， 本次国家实验室探索系列网路研讨会重点介绍了劳伦斯·利弗莫尔国家实验室在基于超透镜的双光子光刻（TPL）技术方面取得的突破性进展。。新唐人、大纪元进行网络重播，即时翻译字幕。
这新一代积层制造平台利用超过12万个可独立定址的聚焦光斑，能够大规模并行制造复杂的多尺度三维微结构。这项创新在显著提高吞吐量的同时，保持了高精度，为微电子、量子装置、聚变能源系统和其他先进技术应用开辟了新的可能性。

国家实验室双光子光刻技术取得突破性进展

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